各種特殊鋼材料と加工部品の開発提案型企業

ターゲット

高純度・高密度・均一組織

ターゲット

半導体や電子部品製造分野の薄膜技術、表面改質に応える高機能・高精度な次世代素材です

高純度、均一組織、高密度、低ガス成分など、ターゲット材料・蒸着材料に要求される高品質をお約束できる製品です。

取扱用途・純度・材質

用途純度材質
磁気記録用薄膜3N~4NNi、Co、Fe、Cr、Ni合金、Co合金、Cr合金
表示用薄膜3N~4NCr、Mo、Ta、Ag合金
半導体・電子部品用薄膜3N~6NMo、Ta、W、Ti、Ni
光磁気記録用薄膜3NGd-Fe-Co、Tb-Fe-Co、Al-Ti、Al、Ni
装飾用薄膜、表面硬化用薄膜2N~3NNi-Cr-Mo、Zr、Hf、Ti-Al-V、Cr、Ti
抵抗用薄膜3NNi-Cr、Ni-V
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